在原神游戲中的4.5版本更新了全新的深境螺旋挑戰(zhàn),玩家在新一期的深境螺旋中會面對新的boss怪物的戰(zhàn)斗,那么在4.5版本中玩家要怎么通關(guān)深淵12層呢?滿星通關(guān)的玩法攻略是什么樣的呢?想必各位小伙伴對于原神4.5深境螺旋第12層怎么通關(guān)和4.5滿星通關(guān)12層打法教程等內(nèi)容都有非常多的疑惑,那么接下來就和小編一起去到正文中一探究竟吧!
原神4.5滿星通關(guān)12層打法教程
淵月祝福
第一期:角色創(chuàng)造巖元素創(chuàng)造物時,將在角色的位置釋放沖擊波,對附近的敵人造成真實傷害,每6秒至多通過這種方式釋放一次沖擊波。
第二期:角色對敵人造成巖元素傷害時,將為該角色進行計數(shù),每0.1秒至多進行一次計數(shù)。計數(shù)達到3次時,將為該角色施加礫石之印:該角色獲得50%巖元素傷害加成,持續(xù)10秒。
第三期:角色觸發(fā)擴散反應(yīng)后,隊伍中所有角色的普通攻擊、重擊與下落攻擊造成的傷害提升20%,該效果持續(xù)10秒,每0.1秒至多觸發(fā)一次,至多疊加3層,每層獨立計時。
敵人特點
上半層
前二間為多波次群怪,第三間為單波次單怪;
上半有所有屬性的額外抗性或免疫,其中以冰元素、風元素加抗幅度大且對應(yīng)敵人生命值高;火、雷、草有免疫,但對應(yīng)敵人的生命值較低;此外,第一間火深淵法師附帶護盾值較低的火元素護盾、幽風鈴蘭·齊萬卡與霜劍律從·安娜有凍結(jié)抵抗。
下半層
三間均為單波次單怪
第一間全抗小幅提升且草元素抗性額外提升
第二間額外物理抗性提升
第三間敵人附帶巖元素護甲,破除前全抗大幅提升;此外,下半所有敵人均免疫凍結(jié)、石化或有凍結(jié)抵抗。
巖元素護甲可以通過削韌與結(jié)晶反應(yīng)破除,結(jié)晶反應(yīng)需要后手巖元素觸發(fā)、角色附著的元素無法直接削減護甲。
聚怪方式/敵人行動機制
上半第一間
敵人的初始站位即比較聚集;如需要使第一波的大型狂蔓隙境原體更加靠近,可以通過開始后立即向前移動至火深淵法師附帶領(lǐng)域的邊緣聚怪。
第一波次戰(zhàn)斗中大型狂蔓隙境原體在爆發(fā)期間不會主動位移,火深淵法師每隔一段時間會施放瞬移技能至角色位置。
第二波次的幽風鈴蘭偏向遠程攻擊,霜劍律從偏向近戰(zhàn)攻擊、有突進技能,戰(zhàn)斗中可以選擇靠近幽風鈴蘭(風屬性)輸出使敵人更加聚集,也可以利用幽風鈴蘭的瞬移機制(開啟風屏障時受到攻擊會移動至角色位置)聚怪。
上半第二間
敵人的初始站位即比較聚集;需要時三個波次的敵人都可以通過遠離、移動至敵人位置的場地另一端聚怪。
三個波次的敵人在戰(zhàn)斗中位移都較不固定;其中第三波次的破陣(水屬性)可能施放突刺技能、近衛(wèi)(冰屬性)攻擊偏向遠程,可以選擇靠近破陣與近衛(wèi)輸出以避免過于分散,摧巖之鉞(巖屬性)架起護盾時可以通過角色繞至護盾后方取消架盾技能。
上半第三間
高潮階段歌裴莉婭固定在場地中心施放技能,正常狀態(tài)下有短距離位移。
下半第一間
翠翎恐蕈正常狀態(tài)下位移距離較短,怒氣值滿后有概率施放長距離的沖刺技能,且觸及場地邊緣后會折返再沖刺一次。
下半第二間:恒常機關(guān)陣列的部分技能會升空;召喚階段中,遺跡殲擊者(長條形)有概率施放鉆地技能、遺跡巡弋者(三角形)在靠近角色時有概率后撤、遺跡防衛(wèi)者(螃蟹形)有概率施放跳躍攻擊且架盾期間不會明顯移動、遺跡偵察者(水母形)通常會靠近角色。
下半第三間:自律超算型場力發(fā)生裝置基本在場地中心施放技能,湮滅后可能有小范圍位移。
生存壓力
上半第一間
大型狂蔓隙境原體開啟護盾的爆發(fā)技期間可能有生存壓力,可以通過盡快破盾、凍結(jié)控制敵人等方式降低。
愚人眾·役人的部分攻擊可能有生存壓力,可以通過控制敵人(有凍結(jié)抵抗)、避免角色被連續(xù)命中、避免被施加生命之契等方式降低。
上半第二間
漂浮靈的技能傷害較低,避免連續(xù)受到元素反應(yīng)即可。
騙騙花刷新時的地下鉆出動作有傷害,推薦此波次開始時避開刷新位置(有紅色特效標識)。
黯色空殼、與光環(huán)「巖潮」的攻擊頻率傷害都較低,但推薦避免角色被連續(xù)命中、受到元素反應(yīng);此外,黑蛇騎士·摧巖之鉞在進入狂暴狀態(tài)后技能會大幅強化,此時可能明顯增加生存壓力。
上半第三間
高潮階段冰風組曲的技能頻率、傷害都較高,可以通過遠離歌裴莉婭、場地周圍的旋風與留意科培琉斯遠離后的冰刃降低生存壓力。
下半第一間
翠翎恐蕈帶來的生存壓力整體較低,避開一些前搖長、幅度大的明顯技能即可。
下半第二間
恒常機關(guān)陣列帶來的生存壓力整體較低,避開一些明顯技能即可;此外,召喚階段中多名遺跡機兵的連續(xù)攻擊可能帶來壓力。
下半第三間
自律超算型場力發(fā)生裝置在荒性狀態(tài)下的傷害較高,且?guī)r潮技能無法通過閃避躲開;推薦避免被頻繁命中、可以利用跳躍高度提升躲避攻擊、通過荒芒湮滅降低壓力。
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